为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2024年12月至2025年01月采购意向公开如下：
序号
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采购项目名称 |
采购需求概况 |
预算金额(万元) |
预计采购时间 |
备注 |
| 1 |
西安工业大学射频电源采购项目 |
采购内容:射频电源； 主要功能或目标:5KW，40.68MHz电源 1.输出功率：5000W，可选功率范围: 1W ~ 正常输出功率； 2.电压驻波比（VSWR）接近理想匹配状态，设备可输出其全部标称功率；电压驻波比在失配状态时（VSWR3.0 : 1:），设备可输出其全部标称功率的60%；电压驻波比在极端不匹配时（VSWR接近无限时）输出功率（正向功率）大于标称功率的20%； 3.最大反射功率: 1000W，标称负载阻抗: 50Ω. 4.输出频率及误差: 40.68MHz ± 5%. 5通信接口：有同步接口；有模拟/数字，可选配 RS-232 / RS-485/ EtherCAT/DeviceNet 2KW，13.56MHz电源 1.功率输出范围：1W – 2000W，最大反射功率： 600 W 当电压驻波比（VSWR1：1~3：1），设备可输出其全部标称功率；当电压驻波比（VSWR）极端不匹配时（VSWR接近无限时），输出功率（正向功率）大于标称功率的60%； 2.输出频率： 13.56 MHz ± 0.005 %； 3.输出阻抗： 50 Ω；谐波： -40 dBc；杂波： -50 dBc；功率精度：±1W or ±1 %；浪涌：±1W；输出功率重复性：±2W or ±1 % 4.可选择运行常规模式和脉冲模式，常规模式：正向功率、负载功率、外部电压；脉冲模式：1 Hz–50 kHz，内部和外部信号源 频率捷变：±678 kHz（±5%）等； 需满足的要求:可用于射频磁控溅射镀膜装置、射频离子源加工以及射频等离子体刻蚀加工专用设备中，磁控溅射源、离子源和等离子体源的射频电源提供等。 |
81.5 |
2025年01月 |
无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
西安工业大学
2024年12月16日
