西安工业大学2024年12月政府采购意向

采购内容:磁控溅射镀膜机；

主要功能或目标:设备采用304不锈钢材料制成，采用自动化控制系统具有良好的人机界面与操作连锁功能，可实现镀膜过程全自动化控制。设备溅射室内腔尺寸：φ550×500mm(H)~ φ600×550mm(H)；极限真空度：≤ 8×10-5 Pa (蒸发室空载)，恢复真空度：3×10-3Pa ≤ 15min，真空系统漏率：≤ 9×10-5 Pa.m3/s，溅射压强控制真空度5×10-2 Pa～10×10-1 Pa；旋转样品盘直径≥ 150mm；样品烘烤25℃～500℃可控可调，控温精度±1°C；配置2台直流溅射电源；配置1套单路射频溅射电源及自动匹配器，工作频率13.56MHz；真空腔内配置1台离子源。；

需满足的要求:项目建设后，建成并投入使用能够提升学校在薄膜与等离子体技术方向的教学与科研设备水平，其中磁控溅射镀膜机主要用于制备光学元件表面所需要的各种金属和介质薄膜，采用磁控溅射沉积的工艺技术方法，实现在基底上沉积单层或多层光学减反射、高反射等薄膜的功能。磁控溅射镀膜机设备满足学校在薄膜与等离子体技术方向的教学与科研设备需求且质量达到现行合格标准，符合国家、行业、地方规定的质量和安全标准。